THÔNG TIN TÓM TẮT VỀ NHỮNG KẾT LUẬN MỚI CỦA LUẬN ÁN TIẾN SĨ
(Thông tin đưa lên trang Web)
Tên luận án: Nghiên cứu ảnh hưởng của một số yếu tố chính đến sự hình thành lớp thấm nitơ bằng phương pháp thâm nitơ plasma xung.
Chuyên ngành: Kim loại học
Mã số: 62440129
Nghiên cứu sinh: Hoàng Vĩnh Giang
Người hướng dẫn khoa học: PGS. TS. Nguyễn Văn Tư
Cơ sở đào tạo: Trường Đại học Bách khoa Hà nội
TÓM TẮT KẾT LUẬN MỚI CỦA LUẬN ÁN
1. Xây dựng thành công phương pháp xác định chiều dày plasma từ hình ảnh cấu trúc plasma ghi được nhờ sử dụng camera ghi hình qua cửa số quan sát. Đây là phương pháp đơn giản, độ chính xác đáp ứng được các yêu cầu của sản xuất và nghiên cứu qui mô công nghiệp.
2. Đã xác định được bằng thực nghiệm chiều dày plasma de [mm] phụ thuộc áp suất p [Pa] theo công thức d = 0,7797+ (nhiệt độ 520 °C, khí thẩm 25% N2+75% H₂). 7,5662×10 P
3. Đề xuất sắp xếp các sản phẩm trong buồng lò đảm bảo khe hở lớn hơn 3 lần chiều dày plasma để tận dụng tối đa không gian lò và tránh hình thành khuếch đại plasma.
4. Đã chỉ ra rằng áp dụng quy hoạch thực nghiệm Taguchi cho phép thiết kế với số lượng thínghiệm ít vẫn định hướng được ảnh hưởng của các thông số công nghệ chính đến sự hình thành lớp thầm trong quá trình thầm nitơ plasma. Từ những định hướng này có thể dễ dàng lựa chọn được các thông số công nghệ thẩm hợp lý để nhận được lớp thầm mong muốn.
5. Đề xuất khái niệm hằng số tốc độ thấm nitơ plasma K dễ sử dụng trong thực tế để tỉnh chiều sâu lớp thầm và bằng thực nghiệm đã xác định được phương trình tỉnh toán hằng số tốc độ thấm nitơ plasma xung thép SKD61, K=1,274×10 exp(- ) [m²/s]. -85000 RT
6. Phương pháp thực nghiệm cũng như kết quả của luận án là tài liệu tham khảo tốt cho các đơn vị sử dụng công nghệ thẩm nitơ plasma.
