Luận án Nghiên cứu mô phỏng và công nghệ chế tạo transistor có độ linh động điện tử cao dựa trên GaN Lưu VIP

Luận án Nghiên cứu mô phỏng và công nghệ chế tạo transistor có độ linh động điện tử cao dựa trên GaN

Danh mục: , Người đăng: Liên Kim Nhà xuất bản: Tác giả: Ngôn ngữ: Tiếng Anh, Tiếng Việt Định dạng: , , Lượt xem: 28 lượt Lượt tải: 0 lượt
Tài liệu, tư liệu này được chúng tôi sưu tầm từ nhiều nguồn và được chia sẻ với mục đích tham khảo, các bạn đọc nghiên cứu và muốn trích lục lại nội dung xin hãy liên hệ Tác giả, bản quyền và nội dung tài liệu thuộc về Tác Giả & Cơ sở Giáo dục, Xin cảm ơn !

Nội dung

THÔNG TIN TÓM TẮT VỀ NHỮNG KẾT LUẬN MỚI CỦA LUẬN ÁN TIẾN SĨ

(Thông tin đưa lên trang Web)

Tên luận án: Nghiên cứu mô phỏng và công nghệ chế tạo transistor có độ linh động điện tử cao dựa trên GaN

Ngành: Vật lý kỹ thuật

Mã số: 9520401

Nghiên cứu sinh: Nguyễn Trung Đô

Người hướng dẫn khoa học:

1. PGS.TS. Nguyễn Ngọc Trung

2. PGS.TS. Nguyễn Hoàng Thoan

Cơ sở đào tạo: Đại học Bách khoa Hà Nội

TÓM TẮT KẾT LUẬN MỚI CỦA LUẬN ÁN

1. Bằng các phương pháp mô phỏng, luận án đã thu được các kết quả có thể tổng kết lại như sau:

Sử dụng phương pháp mô phỏng nguyên lý ban đầu và mô phỏng động lực học phân tử để nghiên cứu và tối ưu hóa cấu trúc của linh kiện. Các kết quả từ quá trình mô phỏng được ứng dụng vào quá trình chế tạo thử nghiệm.

Đã xây dựng thành công mô hình có độ tin cậy cao để mô hình hóa linh kiện HEMT và MOS-HEMT trên máy tính.

2. Luận án đã xây dựng được quy trình chế tạo và chế tạo thử nghiệm thành công linh kiện GaN HEMT.

3. Đã chế tạo tiếp xúc Ohmic có cấu trúc gồm Ti/Al/Pd/Au và khảo sát độ sâu ăn mòn mục tiêu. Qua đó, đã xác định được điện trở suất tiếp xúc là pc = 1.08 × 10-72cm² với độ sâu ăn mòn là 18.35 nm tại nhiệt độ ủ tối ưu 650°C.

4. Đã chế tạo được màng mỏng ô-xít Al2O3 trên đễ bán dẫn Si và các cấu trúc MOS Au/ALD-HfO2/GaN/In trên đế bán dẫn Si (111) với lớp màng mỏng epitaxy n-GaN dày 200 nm bằng phương pháp ALD và tiến hành khảo sát các đặc trưng điện của linh kiện.

Tải tài liệu

1.

Luận án Nghiên cứu mô phỏng và công nghệ chế tạo transistor có độ linh động điện tử cao dựa trên GaN

.zip
14.66 MB

Có thể bạn quan tâm