Luận án Xác định các thuộc tính plasma ion hóa yếu trong va chạm electron của phân tử khí TRIES và khả năng ứng dụng trong công nghệ chế tạo vi mạch Lưu

Luận án Xác định các thuộc tính plasma ion hóa yếu trong va chạm electron của phân tử khí TRIES và khả năng ứng dụng trong công nghệ chế tạo vi mạch

Danh mục: , Người đăng: Ly Võ Thị Nhà xuất bản: Tác giả: Ngôn ngữ: Tiếng Việt, Tiếng Anh Định dạng: , Lượt xem: 12 lượt Lượt tải: 0 lượt
Tài liệu, tư liệu này được chúng tôi sưu tầm từ nhiều nguồn và được chia sẻ với mục đích tham khảo, các bạn đọc nghiên cứu và muốn trích lục lại nội dung xin hãy liên hệ Tác giả, bản quyền và nội dung tài liệu thuộc về Tác Giả & Cơ sở Giáo dục, Xin cảm ơn !

Nội dung

THÔNG TIN TÓM TẮT VỀ NHỮNG KẾT LUẬN MỚI CỦA LUẬN ÁN TIẾN SĨ

(Thông tin đưa lên trang Web)

Tên luận án: “Xác định các thuộc tỉnh plasma ion hỏa yêu trong va chạm electron của phân tử khi TRIES và khả năng ứng dụng trong công nghệ chế tạo vi mạch”.

Chuyên ngành: Kỹ thuật điện tử

Mã số: 9520203

Họ tên nghiên cứu sinh: Phan Thị Tươi

Họ tên cán bộ hướng dẫn:

Hướng dẫn 1: PGS.TS Đỗ Anh Tuấn

Hướng dẫn 2: PGS. TS Phạm Ngọc Thắng

Cơ sở đào tạo: Trường Đại học sư phạm kỹ thuật Hưng Yên

TÓM TẮT KẾT LUẬN MỚI CỦA LUẬN ÁN

1. Xác định được bộ tiết diện va chạm electron của phân tử khí TRIES;

2. Xác định được các thuộc tỉnh plasma ion hóa yếu trong va chạm electron của phân tử khí dạng hợp chất hữu cơ (phân tử khí TRIES) thông qua tính toán được các thông số vật lý trong các hỗn hợp khí của phân tử khi TRIES với các chất khí khác trong phóng điện khí là dữ liệu đầu vào cho mô hình plasma ứng dụng trong công nghệ chế tạo vi mạch.

3. Sản phẩm nghiên cứu của luận án có tác dụng định hưởng ứng dụng trong công nghệ chế tạo vì mạch.

Tải tài liệu

1.

Luận án Xác định các thuộc tính plasma ion hóa yếu trong va chạm electron của phân tử khí TRIES và khả năng ứng dụng trong công nghệ chế tạo vi mạch

.zip
8.38 MB

Có thể bạn quan tâm